1. YNU
  2. 寄僥宛坪
  3. レ鷸喃
  4. プレスリリ`ス匯E
  5. ‐プレスリリ`ス/爺隼麗喇栖カ`ボン楚徨ドットの高デバイス晒に撹孔

‐プレスリリ`ス/爺隼麗喇栖カ`ボン楚徨ドットの高デバイス晒に撹孔

‐プレスリリ`ス/爺隼麗喇栖カ`ボン楚徨ドットの高デバイス晒に撹孔

罪篋偏羨寄僥寄僥垪伏凋ナノシステム親僥冩梢親の蛉 縮娩、椳 争 廁縮らの冩梢グル`プは、オ`ストラリアB溢親僥bI冩梢CCSIROの峠小 随刔 鴬平、鴬昂択白_仟鴬昂-悶圄*壓濆挈の紅翫 \ 彈縮娩らとの慌揖冩梢により、爺隼麗喇栖のカ`ボン楚徨ドットC-QDs1からデバイスを恬し、エレクトロルミネセンスEL2のQyに弊順で兜めて撹孔しました。

しくは、Y創をごEください。

い栽わせ毅輝枠

冩梢容MC C匂蛍裂uセンタ` 彈縮娩 紅翫 \
メ`ルアドレスtanimura-makoto-pzynu.ac.jp

(毅輝済чL片)


ペ`ジの枠^へ